纳米材料CVD设备

石墨稀、碳纳米管材料CVD设备

设备用途

该设备主要用于石墨稀、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

设备系统简介

结构型式卧式,单管或多管系统自动控制
适应晶片尺寸2-8″
送取片方式自动悬臂石英推拉舟,配合手动取、放片方式
最高温度1050℃
工作温度400℃~850℃连续可调
单点温度稳定性400℃~850℃≤±0.5℃/24h
系统极限真空度优于1Pa
抽速抽至极限真空时间<15Min
工作压力范围100-760 Torr连续可调
供电电源三相五线380V±10%,50Hz
冷却水2~4Kgf/cm²,8L/min;
可为用户量身定制非标准产品