薄膜太阳能电池连续制备设备

铜铟镓硒薄膜太阳能电池连续制备设备

设备用途

主要用于铜铟镓硒太阳能电池的研制和小批量制备。

设备组成

主要由铜铟镓硒蒸发沉淀室、钼溅射室、铜铟镓溅射室、硒化室、氧化锌溅射室、激光光刻室、电化学工艺处理缓冲室、进样室、样品传输室、束源炉、磁控靶、样品磁力传递机构、样品库装置、样品加热机构、样品小车、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。

技术指标

蒸发沉积室极限真空6.6×10-8Pa
溅射室极限真空6.6×10-5Pa
进样室采用手动开门关门,一次可以放置六块样品
样品为玻璃,尺寸为100×100×3mm,溅射室一次可以放置一块样品
样品可加热,在真空状态下可通过手动传递样品到各个相关工位

碲化镉太阳能电池镀膜设备

设备用途

主要用来生产薄膜太阳能电池

设备组成

主要由进样室、镀膜室、出样室、样品传动机构、样品库、高压等离子体轰击装置、射频电源、烘烤照明系统、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统和微机控制镀层系统等组成。

技术指标

溅射室极限真空经烘烤6小时左右并连续抽气,极限真空优于6.6×10-4Pa
进出样室极限真空优于6.6×10-2Pa
真空室矩形线列排布的全不锈钢结构
电池尺寸300×400mm,进样室有样品库,一次可以放入六块电池板基片