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半导体系列

石墨烯、碳纳米管材料CVD设备

石墨烯、碳纳米管材料CVD设备

详细介绍

石墨烯、碳纳米管材料CVD设备
石墨烯、碳纳米管材料納米材料CVD设备 Graphene 、Nano-materials CVD

产品介绍 
该设备主要用于石墨烯、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

主要技术指标
结构型式 卧式,单管或多管系统自动控制
适应晶片尺寸 2-8″
送取片方式 自动悬臂石英推拉舟,配合手动取、放片方式。
最高温度 1050℃
工作温度 400℃~850℃连续可调
单点温度稳定性 400℃~850℃≤±0.5℃/24h
系统极限真空度 优于1Pa
抽速 抽至极限真空时间<15Min
工作压力范围 5Pa到1×105Pa连续可调
供电电源 三相五线380V±10%,50Hz
冷却水 2~4Kgf/cm²,8L/min;

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